Réalisation de dépôt de nitrure de silicium dans une enceinte de CVD assistée par plasma de décharge continue, étude de la phase gazeuse, tentative de corrélation entre les caractéristiques du plasma et les propriétés des couches déposées

Introuvable en stock ? Recevez une alerte

Beaucoup d’éditions sont épuisées — soyez prévenu par email quand une offre d’occasion réapparaît, au prix qui vous convient.

Votre adresse sert uniquement à vous prévenir pour ce livre : une confirmation vous sera demandée par email, et chaque message contient un lien de désinscription en un clic. Aucune revente, aucune lettre d’information.