Photomécanique 95

étude du comportement des matériaux et des structures, Journées organisées à l'École normale supérieure de Cachan, 14-16 mars 1995...

auteur :Journées Photomécanique (1995 ; Cachan, Val-de-Marne)

éditeur intellectuels :Groupement pour l'avancement des méthodes d'analyses des contraintes. France, Dimitri Paraskevas, Yves Berthaud, Laboratoire de mécanique et technologie. Cachan, Val-de-Marne, Michel Taroni

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Genre :Actes de congrès

Sujets :Essais · Matériaux -- Essais · Photométrie · Photoélasticité · Plaques et coques élastiques

Première parution: 1995
Éditeur: Eyrolles
Paris
Pages: 324
Éditions: 1
Langue: Français

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Édition

	Année	Éditeur	ISBN	Pages	Ville	Occasion	Notice
	1995	Eyrolles	2-212-08852-3	324	Paris	AbeBooks · Momox ·

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