Le dessin sous-jacent et la technologie dans la peinture

Colloque XI, 14-16 septembre 1995, perspectives

auteur :Colloque pour l'étude du dessin sous-jacent dans la peinture (11 ; 1995 ; Louvain-la-Neuve, Belgique)

éditeur intellectuels :Roger Van Schoute, Hélène Verougstraete

contributeur :Anne Dubois

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Genre :Actes de congrès

Sujets :Dessin sous-jacent · Peinture -- Attribution · Peinture -- Conservation et restauration · Peinture -- Radiographie

Première parution: 1997
Éditeur: Collège Érasme
Louvain-la Neuve
Pages: 278
Éditions: 1
Langue: Français

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Édition

	Année	Éditeur	ISBN	Pages	Ville	Occasion	Librairie	Notice
	1997	Collège Érasme	—	278	Louvain-la Neuve	Vinted

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