Dépôts de nitrure de silicium amorphe obtenus par C.V.D. assistée par plasma de décharge et de post-décharge dans un mélange gazeux Ar-SiH-N

Introuvable en stock ? Recevez une alerte

Beaucoup d’éditions sont épuisées — soyez prévenu par email quand une offre d’occasion réapparaît, au prix qui vous convient.

Votre adresse sert uniquement à vous prévenir pour ce livre : une confirmation vous sera demandée par email, et chaque message contient un lien de désinscription en un clic. Aucune revente, aucune lettre d’information.